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发表于 2013-8-20 10:03:42 |只看该作者 |倒序浏览
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考研咨询热线:13633846090(同微信,请优先微信联系)
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姓    名:胡俊华
性    别:男
出生年月:1979年07月
籍    贯:河南省扶沟县
最高学历:博  士
从事专业:材料科学与工程
职    务:
职    称:副教授
社会兼职:
联系方式:电话:15138663091  
E-mail:hujh@zzu.edu.cn
通讯地址:
个人简历:
1.1999年9月~2003年7月毕业于郑州大学材料科学与工程学院材料科学与工程专业,获工学学士学位。
2.2003年9月~2006年7月毕业于郑州大学材料加工专业,获工学硕士学位。
3.2006年10月~2009年9月,受日本文部科学省国费奖学金资助赴日本国立静冈大学电子工程系光-纳米物质机能专业学习,获工学博士学位。
4.2009年10月起,郑州大学材料科学与工程学院材料科学系工作。
教学情况:
承担金属材料学、能源材料课程的讲授。
研究领域:
1.金属硅化半导体材料的生长和性能研究;
2.环境友好型热电材料和器件开发;
3.金属表面纳米化处理和改性;
4.低维材料的生长制备;
授权国家发明专利2项;在国内外著名期刊上发表学术论文10余篇,参编学术学术著作1部,由INTECH(Austria) 出版集团出版。

部分结项及在研项目如下:
1. 国家自然科学基金:MnSi~1.7热电材料的多尺度制备的性能研究
2. 郑州大学人才引进项目
个人兴趣:
书画、篆刻、羽毛球
主要荣誉:
1.郑州大学首届十佳研究生
2.郑州大学优秀研究生
3.河南省优秀毕业研究生。
4.日本文部科学省国费奖学金
成果清单:
1、发表论文
1 J. Hu, T. Kurokawa, T. Suemasu, Sh. Takahara, M. Itakura, H. Tatsuoka. Growth of Manganese Silicide Layers on Si Substrates using MnCl2 Source.Phys. Status. Solidi. A, 206(2009)233–237.
2. J.Hu,Y. Sato, T. Hosono, H. Tatsuoka.? Growth Condition Dependence of Structural and Electrical properties of Mg2Si Layers Grown on Silicon Substrates. Vacuum 83(2009)1494-1497.
3.J.Hu, A. Kato, T. Sadoh, Y. Maeda, K.N. Galkin, T.V.Turchin, N.G.Galkin, H. Tatsuoka, Optical and Electronic Properties of M2Si (M=Mg, Ca and Sr) Grown by Reactive Deposition Technique, Inte.J. Modern Physics B 24 (2010) 3693-3699.
4. J. Hu, C. Zhang, S. Guan, L. Wang, S. Zhu. Nanoporous TiO2 films prepared by thermal rapid treatment (TRT). Materials Letters.64(2010)2569-2571.
5. J. Hu, Shaokang Guan, C. Zhang, Ch Ren, C. Wen, Zh. Zeng and L. Peng Corrosion protection of AZ31 magnesium alloy by a TiO2 coating prepared by LPD method. Surface and Coatings Technology 203(2009) 2017-2020.
6. Junhua Hu, Caili Zhang, Baohong Cui, Kuifeng Bai, Shaokang Guan, Liguo Wang, Shijie Zhu. In vitro degradation of AZ31 magnesium alloy coated with nano TiO2 film by sol–gel method. Applied Surface Science 257(2011) 8772-8777.
7.J.Hu, Wen Li, Shaokang Guan, Hirokazu Tatsuoka,Preparation and electrical properties of Mn silicides by reaction of MnCl2 and Si powder, Physics Procedia 11(2011)138-141.
8. J.Hu, M. Nishiura, Y. Momose, T. Matsuyama, H. Tatsuoka (2009) Selected? single phase growth based on reactive deposition techniques for semiconducting silicides and related materials, Proc. in Internationl Conference on the Materials for Advanced Technologies, Materials Research Society of Singapore, 2009.7.1,PP.13.
9. Junhua Hu,Takanori Kurokawa; Hirokazu Tatsuoka, Growth of Single Phase Mn- Silicide Layers on Si Substrates by Using Manages Chloride Source, Proc. in Internationl Conference on the Materials for Advanced Technologies,Materials Research Society of Singapore, 2009.7.1,PP.11.
10.J.Hu,S.K.Guan, Surface modification of Mg alloys with HA and TiO2 coatings, In Magnesium Alloys, Theory and Applications ISBN 978-953-7619-X-X (To be issued at Dec. 29 2010 by INTECH.)
11. 胡俊华,关绍康,任晨星,陈贵林,周占霞,镁合金负载TiO2薄膜的耐腐蚀性研究,腐蚀科学与防护技术 18(2006)161-163.
12.J.H. Gao, S.K.Guan, J. Chen, L.G. Wang, S.J. Zhu, J.H. Hu, Z.W. Ren. Fabrication and characterization of rod-like nano-hydroxyapatite on MAO coating supported on Mg-Zn-Ca alloy, Applied Surface Science 257(2011) 2231-2237.
13. Shuai Chen, Shaokang Guan, Bin Chen, Wen Li, Jun Wang, Liguo Wang, Shijie Zhu, Junhua Hu.Corrosion behavior of TiO2 films on Mg–Zn alloy in simulated body fluid .Applied Surface Science 257( 2011) 4464-4467.
14. Wen Li, Shaokang Guan, Juan Chen, Junhua Hu, Shuai Chen, Liguo Wang, Shijie Zhu. Preparation and in vitro degradation of the composite coating with high adhesion strength on biodegradable Mg-Zn-Ca alloy.Materials Characterization, In Press, Accepted Manuscript, Available online 19 July 2011
15.E.C. Meng, S.K. Guan, H.X. Wang, L.G. Wang, S.J. Zhu, J.H. Hu, C.X. Ren, J.H. Gao, Y.S. Feng. Effect of electrodeposition modes on surface characteristics and corrosion properties of fluorine-doped hydroxyapatite coatings on Mg-Zn-Ca alloy. Appl. Surf. Sci.257(2011) 4811-4816.
2、申请专利
1、关绍康;胡俊华;任晨星;赵红亮;王利国;李庆奎;朱世杰 一种镁合金负载纳米TiO2光催化薄膜的制备方法,授权专利号:ZL 200510017748.3
2、关绍康;任晨星;曹文博;胡俊华;孙玉峰;刘晓芳 一种镁合金表面直接纳米二氧化钛化学复合镀的方法,授权专利号:ZL 200510107254.4
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