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个人概况:
姓名:姚志强 性别:男 出生年月:1978年2月 籍贯:河南省商水县 最高学历:博士(香港城市大学) 从事专业:材料科学与工程 职称:教授
电话:13837197026 E-mail:zqyao@zzu.edu.cn
通讯地址:河南省郑州市高新区科学大道100号,郑州大学材料科学与工程学院,450001
教育背景:
1997. 9-2001. 7,燕 山大 学,材料学院(金属材料系),本科
2001. 9-2004. 1,西南交通大学,材料学院(生物材料与表面工程研究所),硕士
2004. 2-2005. 8,西南交通大学,材料学院(生物材料与表面工程研究所),博士
2005. 9-2008. 8,香港城市大学,物理及材料科学系(COSDAF研究中心),博士
研究经历:
2008. 9-2009. 8,香港城市大学,超金刚石及先进薄膜研究中心(COSDAF),高级研究助理
2009. 9-2011. 5,德国锡根大学,材料工程与表面技术研究所(LOT),洪堡学者
2011. 7-2012. 4,香港城市大学,超金刚石及先进薄膜研究中心(COSDAF),Research Fellow
工作经历:
2011.12-2012.12, 郑州大学,材料学院(无机非金属材料系),教师
2013. 1- 郑州大学,材料学院(无机非金属材料系),教授
学术荣誉:
2004. 4, 中国真空学会2003年度“中国真空科学与技术硕士、博士生优秀论文奖金”。
2009. 3,德国洪堡学者。
研究领域:
横向:
表面与涂层技术开发(磁控溅射,化学气相沉积,电子束/蒸发镀等)
纵向:
特种无机涂层与薄膜(E020703)
薄膜半导体材料(F040103)
表面、界面和低维系统的电子结构和电学性质(A040204)
在研项目:
1.“p型CuAlO2薄膜光电性能协同调控及发光晶体管器件应用”国家自然科学基金(51202224),2013.1-2015.12,主持。
2.“郑州大学引进人才科研启动费”,主持。
.“超薄Si/FeSi2/Si太阳电池的界面、缺陷与光伏转换效率的关联”国家自然科学基金(11174256),2012.1-2015.12,参与。
代表性论文:
1. ZQ Yao, SL Liu, L Zhang, B He, A Kumar, X Jiang, WJ Zhang, G Shao. “Room temperature fabrication of p-channel Cu2O thin-film transistors on flexible polyethylene terephthalate substrates.” Appl. Phys. Lett. 101 (2012) 042114.
2. ZQ Yao, B He, L Zhang, CQ Zhuang, TW Ng, SL Liu, M Vogel, A Kumar, WJ Zhang, CS Lee, ST Lee, X Jiang. “Energy band engineering and controlled p-type conductivity of CuAlO2 thin films by nonisovalent Cu-O alloying.” Appl. Phys. Lett. 100 (2012) 062102.
3. B He, WJ Zhang, ZQ Yao, YM Chong, Y Yang, Q Ye, XJ Pan, JA Zapien, I Bello, ST Lee, I Gerhards, H Zutz, H Hofs?ss. “p-type conduction in beryllium-implanted hexagonal boron nitride films. ” Appl. Phys. Lett. 95 (2009) 252106.
4. WF Zhang, JS Jie, LB Luo, GD Yuan, ZB He, ZQ Yao, ZH Chen, CS Lee, WJ Zhang, ST Lee. “Hysteresis in In2O3:Zn nanowire field-effect transistor and its application as a nonvolatile memory device.” Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 183111.
5. YS Zou, Y Yang, YM Chong, Q Ye, B He, ZQ Yao, WJ Zhang, ST Lee, Y Cai, HS Chu. “Chemical vapor deposition of diamond films on patterned GaN substrates via a thin silicon nitride protective layer.” Crystal Growth & Design 8 (2008) 1770.
6. ZQ Yao, X Fan, B He, WJ Zhang, I Bello, ST Lee, XM Meng. “Study of in-plane orientation of epitaxial AlN films grown on (111) SrTiO3.” Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 241911.
7. ZQ Yao, YQ Li, JX Tang, WJ Zhang, ST Lee. “Growth and photoluminescence studies of AlN thin films with different orientation degrees.” Diamond Relat. & Mat. 17 (2008) 1785.
8. ZQ Yao, YS Zou, Y Yang, WJ Zhang, ST Lee, YZ Zhang, ZZ Ye, “Epitaxial growth and structural analysis of AlN/GaN heterostructures.” Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 221912.
9. ZQ Yao, Q Ye, YQ Li, YS Zou, WJ Zhang, ST Lee. “Microstructure analysis of c-axis oriented AlN thin films by high resolution TEM (HRTEM).” Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 121907.
10. TF Chung, LB Luo, ZB He, YH Leung, I Shafiq, ZQ Yao, ST Lee. “Selective growth of catalyst-free ZnO nanowire arrays on Al:ZnO for device application.” Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 233212.
研究梯队:
本课题组隶属于国家“千人计划”邵国胜教授团队-“郑州大学中英纳米多功能材料研究中心”,团队成员以留学归国青年博士为主体,均有在多个相关国际知名科研机构学习和研究的经历。实验室建有100平米超净室,拥有2台UHV磁控溅射系统(配有Lesker UHV溅射阴极源,Advanced Energy CESAR? 133射频电源、美国HeatWave Labs 1200 oC抗氧化高温加热器)、Gatan PIPS 691 离子减薄仪、日本理学5轴转动X射线衍射仪、Keithley 4200 SCS半导体特性综合测试系统、Lakeshore 8804A霍尔效应/电输运特性测试系统、ABM紫外光刻机等国际一流设备,建立了相关研究所需的薄膜制备及性能测试系统,具备良好的薄膜生长、光电性能研究及器件研制基础。
本人计划每年招收硕士研究生2人。对具有积极进取精神、科研能力强的学生采取与香港、德国全球100强名校联合培养/直送等多种柔性培养方式,为学生的个人成长提供宽广空间。欢迎具有材料科学与工程(不分专业)、物理、化学专业背景的同学报考本课题组的研究生。
欢迎对“功能薄膜材料与器件”方向充满浓厚兴趣的本科生到实验室开展探索研究! |
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